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無菌無塵凈化室：室內懸浮粒子濃度受控的房間；房間的建設和使用方式都盡可能使室內進入、產生和滯留粒子減到一定的程度，凈化工程是在一定空間范圍內，將空氣中的微粒子、有害空氣、等污染物排除，并將室內溫度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內的工程學科。凈化工程所特別設計的房間，不論外在空氣條件如何變化，室內均具有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能。

電子廠房無塵凈化車間，也稱為潔凈室，是指將一定空間范圍內的空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等污染物排除，并將室內的溫度、濕度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電等控制在某一特定需求范圍內，而所給予特別設計的空間。

核心目的： 為微電子、半導體、液晶顯示、光伏等精密產品的生產提供一個近乎“零污染”的環境，防止空氣中的塵埃顆粒落在精密電路上造成產品短路、失效等。

核心關鍵指標

1. 潔凈度等級

   • 國際標準 ISO 14644-1：根據單位體積空氣中特定大小的塵埃粒子數量來劃分。例如：

     • ISO Class 1-3：用于最高端的半導體前端工藝（如光刻）。

     • ISO Class 4-5（相當于舊標準的Class 10 和 Class 100）：常用于半導體、集成電路的關鍵區域。

     • ISO Class 6-7（相當于舊標準的Class 1,000 和 Class 10,000）：用于液晶制造、封裝測試等。

     • ISO Class 8-9（相當于舊標準的Class 100,000 和 Class 1,000,000）：用于一般精密制造、零部件清洗區等。

   • 檢測方法：使用粒子計數器在靜態和動態條件下進行測量。

2. 溫濕度控制

   • 溫度：通常控制在22±2°C。精確的溫度控制可以避免材料熱脹冷縮，保證光刻和對準精度。

   • 濕度：通常控制在45±5% RH。過高的濕度會導致金屬腐蝕（電路銹蝕）和光刻膠粘連；過低的濕度則容易產生靜電，吸附灰塵或擊穿精密電路。

3. 壓差控制

   • 原則：潔凈度高的區域壓力 > 潔凈度低的區域壓力，以防止低潔凈度區域的污染物流入高潔凈度區域。

   • 例如：核心生產區（光刻區）> 走廊 > 更衣區 > 外部。通常會維持5-20Pa的正壓差。

4. 靜電控制（ESD）

   • 電子廠房最大的威脅之一。靜電會吸附塵埃，甚至直接擊穿集成電路。

   • 措施：使用防靜電地板、墻壁、工作服；控制濕度；使用離子風機中和電荷。

主要組成部分與系統

一個完整的無塵凈化車間是一個復雜的系統工程，主要包括：

1. 圍護結構

   • 采用不產塵、不積塵、易清潔的材料，如彩鋼板、金屬板等。墻角、頂棚交界處采用圓弧處理，防止積灰。

2. 空氣凈化系統 - 核心

   • FFU（風機過濾單元）：目前主流方案，每個單元自帶風機和高效/超高效過濾器，布置在吊頂上，實現模塊化控制和高效過濾。

   • MAU（新風機組）：負責處理室外新鮮空氣，進行初效、中效過濾，以及溫濕度預處理，再送入循環系統。

   • HEPA/ULPA過濾器：高效/超高效空氣過濾器，是捕捉塵埃顆粒的最后一道關卡，安裝在FFU或送風末端。

   • 風淋室/貨淋室：人員/物料進入潔凈區前的吹淋設備，用高速潔凈氣流吹落表面附著顆粒。

3. 氣流組織模式

   • 單向流（層流）：空氣以均勻的斷面速度、單一方向流動。像“活塞”一樣將污染物推走。用于最高級別的區域（如ISO Class 1-5）。

   • 非單向流（亂流）：利用稀釋原理，通過高效過濾器送出的潔凈空氣與室內空氣混合，逐漸稀釋并帶走污染物。用于較低級別的區域。

4. 其他輔助系統

   • 純水系統：提供芯片清洗、化學品配制等所需的高純度去離子水。

   • 特氣系統：安全地輸送和生產工藝所需的特殊氣體（如硅烷、磷烷等易燃易爆或有毒氣體）。

   • 化學品供應系統：輸送蝕刻液、顯影液等工藝化學品。

   • AMC（氣態分子污染物）控制：針對空氣中微量的酸性、堿性、分子級污染物進行過濾，這對納米級工藝至關重要。

   • 自動化控制系統（BMS/FMS）：實時監控和調節溫濕度、壓差、潔凈度等所有參數。